oxide breakdown:指“氧化层击穿/氧化物击穿”,常见于材料科学与微电子领域,表示氧化物薄膜(如二氧化硅 SiO₂、栅氧化层等)在高电场、缺陷累积或应力作用下失去绝缘能力,发生导电通道形成,从而导致漏电骤增或器件失效。(在不同语境下也可泛指金属表面氧化膜的失效与破裂。)
/ˈɑːksaɪd ˈbreɪkdaʊn/
Oxide breakdown can ruin a transistor.
氧化层击穿会毁掉一个晶体管。
After prolonged electrical stress, the device showed oxide breakdown, causing a sharp rise in leakage current and permanent performance degradation.
在长时间电应力作用后,该器件出现氧化层击穿,导致漏电流陡增并造成永久性性能退化。
oxide 来自 “oxide(氧化物)”,源于 “oxygen(氧)” 相关的化学命名体系;breakdown 表示“崩溃、失效、击穿”,在电工学里常用于指绝缘介质在强电场下的失效(如 electrical breakdown)。合在一起,oxide breakdown 就是“氧化物/氧化层作为绝缘介质发生电击穿而失效”。